| Размер устройства |
620(Д)×550(Ш)×830(В)мм (настраиваемый) |
|---|---|
| Размер камеры |
200 мм x 200 мм x 250 мм (настраиваемый) |
| Материал камеры |
Алюминий |
| Барабан |
110*138 мм (настраиваемый) |
| Измерение вакуума |
Вакуумметр Пирани |
| Вакуумный насос |
Сухой вакуумный насос |
| Источник питания плазмы |
300 Вт, 13,56 МГц |
| Метод контроля |
ПЛК(Siemens)+HIM |
| Источник питания |
AC220V (±10%) |
| Мощность устройства |
1.8КВт |
| Время подготовки к вакуумированию: |
В течение 30 с. |
The Машина вакуумно-плазменной очистки порошка VL-10-F представляет собой вакуумную систему очистки реакционного барабана с возможностью вращения на 360°. Она широко используется для мелкосерийного производства на предприятиях или в исследовательских целях. Система компактна, демонстрирует стабильную производительность и обеспечивает равномерные результаты очистки с высокой экономической эффективностью. Барабан может вращаться на 360° без мертвых углов, что делает его идеальным для обработки порошков, гранул и небольших нерегулярных продуктов. Его основные функции включают очистку поверхности, активацию и повышение адгезии и прочности связи. Система может быть адаптирована для удовлетворения конкретных требований заказчика с помощью профессиональных, эффективных и стабильных решений.
Плазма образуется, когда молекулы газа в особых условиях, таких как вакуум или электрический разряд, ионизируются. В системах плазменной очистки/травления герметичная камера оснащена двумя электродами для формирования электромагнитного поля. Вакуумный насос создает необходимый уровень вакуума; по мере того, как газ становится все более разреженным, расстояние между молекулами увеличивается, а их свободное движение расширяется. Под воздействием магнитного поля происходят столкновения, в результате которых образуется плазма вместе с тлеющим разрядом. Плазма движется в электромагнитном поле и бомбардирует поверхность обрабатываемого объекта, тем самым достигая эффектов обработки поверхности, очистки и травления.
Система использует автоматическое управление человек-машина на основе ПЛК вместе с интуитивно понятным интерфейсом сенсорного экрана, что делает операции простыми и гибкими. В режиме программируемого управления ПЛК можно устанавливать разное время очистки для разных продуктов, тем самым повышая эффективность и гибкость процессов очистки.
Машина для вакуумной плазменной очистки порошков предназначена для модификации поверхности порошков (таких как керамические порошки, графеновые порошки, углеродные порошки, полимерные порошки, наноматериалы и т. д.). Она изменяет микроскопическую структуру и улучшает поверхностную энергию. Например, неорганические порошки могут быть модифицированы для формирования полимерного слоя на их поверхности посредством реакции, которая снижает поверхностную энергию и минимизирует тенденцию к агломерации. Кроме того, полимерный слой повышает совместимость между порошком и органическими полимерами, тем самым улучшая дисперсию.
Он также применим для модификации поверхности гранулированных материалов (таких как шарики припоя, керамические гранулы, пластиковые гранулы, таблетки, капсулы и т. д.) путем удаления невидимых органических и неорганических загрязнений и последующего выполнения модификации поверхности. Этот процесс гарантирует, что форма частиц останется неизменной, одновременно увеличивая поверхностную энергию для лучшей реактивности с другими материалами.
Wenzhou Keling Environmental Protection Technology Co., Ltd. — высокотехнологичное предприятие, специализирующееся на исследовании, производстве и продаже оборудования для плазменной обработки поверхности. Благодаря вертикальной интеграции от базовых компонентов до комплексного оборудования и технологических решений мы являемся ведущим поставщиком услуг для комплексных решений по адгезии поверхности в Китае.
Постоянные исследования и разработки новых процессов обработки поверхности и технологических инноваций позволяют нам настраивать структуру и конфигурацию оборудования в соответствии с потребностями клиентов, обеспечивая более высокую эффективность и удобство.
Машина для вакуумной плазменной очистки порошка предлагает пять основных преимуществ:
Комплексная защита безопасности:
Оснащен защитой от перегрузки, защитой от короткого замыкания и обрыва цепи, а также защитой от различных неправильных действий.
Уникальная технология разряда:
Использует специально разработанное разрядное устройство и структуру для обеспечения стабильного и равномерного образования плазмы.
Превосходная конструкция герметизации вакуумной камеры:
Использует конструкцию и производственные процессы высоковакуумной камеры военного уровня в сочетании с импортной технологией вакуумных насосов.
Высококачественные компоненты:
Использует высококачественные детали отечественного и зарубежного производства, что обеспечивает превосходную производительность, подходит для очистки сложных форм, включая внутренние поверхности и глухие отверстия, гарантируя равномерную очистку со всех сторон.
Прецизионная обработка с ЧПУ:
Изготовлено с использованием импортного прецизионного ЧПУ-обработки и контролем качества на трехкоординатных измерительных машинах.